Untuk menekan panas, urutan tekanan dan suhu yang terkawal digunakan. Kerap kali, tekanan diberikan setelah beberapa pemanasan terjadi kerana tekanan pada suhu yang lebih rendah dapat memberikan kesan buruk pada bahagian dan perkakas. Suhu menekan panas beberapa ratus darjah lebih rendah daripada suhu sintering biasa. Dan pemadatan hampir lengkap berlaku dengan cepat. Kelajuan proses dan suhu yang lebih rendah yang diperlukan secara semula jadi membatasi jumlah pertumbuhan bijirin.
Kaedah yang berkaitan, percikan plasma sintering (SPS), memberikan alternatif kepada mod pemanasan resistif dan induktif luaran. Dalam SPS, sampel, biasanya serbuk atau bahagian hijau yang dimampatkan, dimuat dalam grafit mati dengan pukulan grafit di ruang vakum dan arus DC berdenyut diterapkan melintasi pukulan, seperti yang ditunjukkan pada Gambar 5.35b, sementara tekanan diterapkan. Arus menyebabkan pemanasan Joule, yang menaikkan suhu spesimen dengan cepat. Arus ini juga diyakini dapat memicu pembentukan plasma atau pelepasan percikan di ruang pori antara zarah, yang mempunyai kesan membersihkan permukaan zarah dan meningkatkan sintering. Pembentukan plasma sukar untuk disahkan secara eksperimen dan menjadi topik perbahasan. Kaedah SPS terbukti sangat berkesan untuk pemadatan pelbagai jenis bahan, termasuk logam dan seramik. Densifikasi berlaku pada suhu yang lebih rendah dan diselesaikan lebih cepat daripada kaedah lain, yang sering menghasilkan struktur mikro butiran halus.
Tekanan Isostatik Panas (HIP). Tekanan isostatik panas adalah penerapan tekanan haba dan hidrostatik secara serentak untuk memadatkan dan mengetatkan serbuk atau bahagian serbuk. Prosesnya serupa dengan tekanan isostatik sejuk, tetapi dengan suhu tinggi dan gas memancarkan tekanan ke bahagian tersebut. Gas lengai seperti argon adalah perkara biasa. Serbuk pekat dalam bekas atau tin, yang bertindak sebagai penghalang yang boleh ubah antara gas bertekanan dan bahagiannya. Sebagai alternatif, bahagian yang telah dipadatkan dan disisipkan ke titik penutupan liang dapat HIPed dalam proses "tanpa kontena". HIP digunakan untuk mencapai pemadatan lengkap dalam metalurgi serbuk. dan pemprosesan seramik, serta beberapa aplikasi dalam pemadatan coran. Kaedah ini sangat penting bagi bahan yang sukar untuk mengetatkan, seperti aloi tahan api, aloi super, dan seramik bukan oksida.
Teknologi kontainer dan enkapsulasi sangat penting untuk proses HIP. Bekas sederhana, seperti tin logam silinder, digunakan untuk ketumpatan bilet serbuk aloi. Bentuk kompleks dibuat menggunakan bekas yang mencerminkan geometri bahagian akhir. Bahan kontena dipilih agar kedap kebocoran dan boleh ubah bentuk dalam keadaan tekanan dan suhu proses HIP. Bahan bekas juga tidak boleh bertindak balas dengan serbuk dan mudah dikeluarkan. Untuk metalurgi serbuk, bekas yang dibuat dari kepingan keluli adalah perkara biasa. Pilihan lain termasuk seramik kaca dan berliang yang tertanam dalam tin logam sekunder. Enkapsulasi serbuk kaca dan bahagian yang telah dibentuk adalah biasa dalam proses HIP seramik. Mengisi dan mengosongkan bekas adalah langkah penting yang biasanya memerlukan lekapan khas pada bekas itu sendiri. Beberapa proses evakuasi berlaku pada suhu tinggi.
Komponen utama sistem untuk HIP adalah kapal tekanan dengan pemanas, peralatan menekan dan menyerahkan gas, dan elektronik kawalan. Rajah 5.36 menunjukkan skema contoh penyediaan HIP. Terdapat dua kaedah operasi asas untuk proses HIP. Dalam mod pemuatan panas, bekas dipanaskan di luar kapal tekanan dan kemudian dimuat, dipanaskan ke suhu yang diperlukan dan ditekan. Dalam mod pemuatan sejuk, bekas dimasukkan ke dalam bejana tekanan pada suhu bilik; maka kitaran pemanasan dan tekanan bermula. Tekanan dalam lingkungan 20–300 MPa dan suhu dalam lingkungan 500–2000 ° C adalah biasa.
Masa pengeposan: 17-17-2020